第282章（第2页）

要知道需要支持3n芯片的制造，硅原子不到02n，需要让一束激光准确无误地切开几个硅原子之间的连接。

这个操作比登天还难，但是他们做到了！

身为研究光刻机多年的老人，徐院士看着那一串串数据，不用林曦月宣布，他都知道3n的光刻机，真的出现了！

第215章这还是人吗

徐院士轻轻拭去眼角泛出的泪水，没想到他有生之年能看到3n的光刻机出现，还是华国先做出来的。

一旁的罗甘看到徐院士的反应，有些愣愣的看向林曦月，“这是成功了吗”

林曦月笑着点点头，“嗯，成功了。”

随着她的宣布，研究室爆出一阵欢呼。

“老大！

我们成功了！”

“我的天，我们真的做出来了！”

“3n的光刻机，我看霉国还有什么话说！”

“对！

谁稀罕他们的5n光刻机啊！”

在众人的你一言我一语中，罗甘颤抖着手走上前，像是对待自己的恋人一般，轻轻地抚摸那台冰冷的机器。

国外的光刻机技术一直都很发达，华国的光刻机技术落后他们大约20年的时间。

所以在光刻机这方面的技术，华国一直被捏住喉咙。

加上霉国近年来一直试图联系何国各个公司，阻碍他们出口光刻机给华国。

因此在光刻机上的研发，迫在眉睫。

之前做出22n的光刻机，已经足够让人兴奋的了。

虽然国外的技术超前，但是他们同样不得不在3n的光刻机面前低头。

3n是光刻机的最小工艺极限，或者说是euv光刻机的最小工艺极限。

最根本的原因来自于纳米光子工艺极限性，即使有多种技术来操纵光，euv光刻机的波长极限就是135n。

并且半导体的主要材料是硅，然而硅原子直径大约是012n。

10个硅原子排成一列的程度大约为12n，所以想再突破3n的光刻机，那就涉及到了操纵原子的境界。

或者再重新找到合适的波长，对于euv光刻机，3n是目前的最大极限。

所以即使国外能造出5n的光刻机，对于3n的光刻机也无从下手。

这也是华国最好赶超的时候，大家都做不出来，那就等我们一点一点赶上来。

没想到就在今天，华国直接一跃从22n飞到令国外头疼的3n。

这如何不让人激动！

在他们测试的时候，已经有一队兵哥将研究室围的密不透风，一只苍蝇都别想飞出去。

路过的研究员看到这个场面一惊，这是发生什么事了？hr

（）

span传送门：||

本章未完，点击下一页继续阅读